在半导体制造、精细粉体加工等精密工艺中，表面有机残留、杂质污染直接影响产品性能与良率。传统湿法清洗易造成物料损伤，真空清洗设备成本高、操作复杂，而SAMCO UV-1 紫外光臭氧表面处理清洗机凭借温和的干式工艺，成为高效且安全的表面处理解决方案。

这款设备无需真空系统，在大气压下即可稳定运行，通过紫外光激发臭氧，配合加热台面的温度控制，实现对硅、玻璃、GaN/GaAs/InP/SiC 等化合物半导体、蓝宝石、陶瓷基板及精细粉体的有机物高效去除。它**可处理 φ100 mm 基板及 4 英寸晶圆，加热台面不仅能加快清洗速率，还能模拟实际制程温度，让工艺结果更贴近生产场景。

SAMCO UV-1 紫外光臭氧表面处理清洗机在设计上充分考虑了工业使用的安全性与便捷性：配备上盖连锁机制，上盖开启时系统无法运行，避免误操作；自带臭氧分解装置，确保排气时臭氧浓度降至安全范围；同时支持自动 N₂ purge 循环、加热台面保险丝保护、臭氧洗涤及紧急停止按钮，全方位保障生产安全。

它的应用场景十分广泛：可用于半导体封装、电子元件的表面清洗，也能完成精细粉体、天然植物原料的有机杂质去除；还能实现表面改质（提升亲水性与附着力）、表面氧化（形成氧化薄膜）、光阻灰化与残留清洗等多种工艺需求，是半导体研发、小批量生产、高端粉体加工的理想设备。

作为日本 SAMCO 品牌的经典机型，UV-1 以其精简紧凑的结构、稳定可靠的性能，深受电子制造、精细化工、科研院所用户的认可。我们提供专业的选型支持、安装调试与技术服务，可根据您的物料类型与工艺需求，定制**的清洗方案。